德国Hellma光学材料分类

Hellma Materials 源自德国光学重镇耶拿，承袭百年光学制造精髓与原肖特（Schott Lithotec）光刻级晶体技术，自 1922 年创立以来，专注于高精度光学材料与元件的研发、生产与加工。公司在德国耶拿自建晶体生长基地，自主培育超高纯度合成氟化钙晶体，从原材料提纯、晶体生长到精密加工、质量检测，实现全流程自主把控。

分类：

1. 标准光学级 CaF₂

CaF₂-UV：深度优化深紫外波段（130nm-350nm）透过率，无杂散光、无吸收峰，适配紫外光谱仪、光学检测设备。

CaF₂-IR：专注红外波段（0.78μm-8μm）高透射性能，化学稳定性强，适配红外传感、热成像系统。

CaF₂-POL：超高表面精度与光学均匀性，低双折射，适配精密成像、显微镜、天文光学系统。

2.高激光损伤阈值级 CaF₂

CaF₂-LDT：激光损伤阈值超 10J/cm²@193nm，抗高能量脉冲激光冲击，适配高功率工业激光系统。

CaF₂-EXCIMER：为准分子激光专项优化，适配 193nm、248nm 光刻激光，长期使用无性能衰减。

激光耐久分级（LD 系列）：LD-A（超高级）适配 7nm 及以下先进制程光刻；LD-B（高级）适配中高能量准分子激光；LD-C 适配常规激光传输；LD-D（标准）适配低能量光学场景。

3.高纯度电子级 CaF₂

CaF₂-EP：金属杂质含量低于 1ppm，超高纯度，适配半导体工艺设备、真空检测系统。

CaF₂-VUV：突破真空紫外波段传输壁垒，适配 157nm 及以下深紫外科研与工业应用。