德国Hellma氟化钙CaF2 193nm介绍

德国Hellma氟化钙CaF2 193nm介绍

材料：CaF2 193nm，LD-A，单晶，晶体方向 (111)  

圆片：直径 200.0mm x 50.0mm（平面-平面）  

公差：直径（±0.5 mm）；厚度（±0.5 mm）  

表面质量：磨光（Rq 2µm）  

保护倒角：1.5mm  

应力双折射 <1nm/cm PV  

气泡/夹杂物 1x0.1  

均匀性 1ppm PV

不同应用场景折射率成套选型方案

方案 1：193nm ArF 光刻系统

晶向：强制(111)

等级：LD-A

设计折射率：n₁₉₃=1.50143

附加指标：均匀性 1ppm、双折射≤0.5nm/cm、气泡夹杂 1×0.1mm 以内

价值：保证整颗镜片折射率一致，纳米级投影无波前畸变

方案 2：248nm KrF 光刻 / 准分子激光打标

晶向：(100) 可降本

等级：LD-B

折射率：n₂₄₈=1.4708

方案 3：红外测温、中红外真空窗口

晶向：随机 /(100) 均可

等级：LD-D 工业级

折射率按 3~5μm 红外波段取值 1.415 左右

方案 4：科研深紫外干涉仪、光束质量检测

晶向：(111)

等级：LD-A

重点管控：折射率空间均匀性、偏振态带来的等效折射率差

德国Hellma氟化钙CaF2 193nm介绍