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德国 Hellma Materials CaF₂氟化钙单晶圆片毛坯,规格 Φ100.0mm×30.0mm 平 - 平双面,晶向定向生长,LD-A 光刻品级,全套光学指标拉满:应力双折射≤0.5nm/cm PV、折射率均匀性 1ppm PV、气泡夹杂严控 1×0.1mm 以内,外周 1.5mm 保护倒角、有效通光孔径居中 Φ95mm,尺寸公差、表面粗糙度均按半导体装备标准管控,是 193nm ArF 深紫外光路的基材。

特点:
1. 193nm 深紫外高透过,激光耐久度好
LD-A 为 Hellma 高等级光刻氟化钙,193nm 波段无吸收,可承受超 10⁹次激光脉冲冲击,长期高频辐照不产生色心、不透光衰减,解决深紫外激光下材料老化、光斑漂移痛点。
2.晶向超低应力双折射,波前零畸变
氟化钙立方晶系中 为本征双折射最小取向,产品实测≤0.5nm/cm PV,可以消除偏振像差、光束分裂问题,保障光路偏振态高度一致,是纳米级成像精度的保障。
3. 1ppm 高折射率均匀性,成像一致性拉满
整版晶体折射率波动控制在 1ppm PV 以内,光束穿过晶体后波前畸变小,可以提升光学系统成像均匀度,直接决定光刻机、干涉仪等设备最终分辨率与良率。
4. 低色散 + 优异热稳定性,复杂工况稳定运行
阿贝数高达 95.23,色差校正能力强;热导率 9.71W/(m・K),高功率激光工作下快速散热,抑制热透镜效应与热形变,
5.毛坯精密加工,后续精加工兼容性强
Φ100×30mm 标准圆片毛坯,磨抛基面 Rq2μm,外周防崩边倒角,可直接二次抛光、镀膜、切割为透镜、窗口片、棱镜,缩短下游元件加工周期,尺寸容错性充足。