德国 Hellma氟化钙单晶用于半导体行业

德国 Hellma 自产高纯合成氟化钙单晶，宽光谱覆盖真空紫外至红外波段，低色散、光学均匀性表现好，激光耐受性能优。 适配 193nm/248nm 光刻光路、晶圆检测、真空光学窗口、准分子激光设备等半导体场景，支持多晶向、多尺寸、不同表面状态定制，多品级可选，适配不同设备工况需求。

选型时建议确认工作波长、激光能量密度、晶体取向、尺寸公差、表面质量以及真空环境要求，便于匹配对应品级的氟化钙产品。

氟化钙拥有 130 nm 真空紫外至 9 μm 红外的宽光谱透射区间，在 193 nm、248 nm 等半导体光刻波段，能够降低光路能量损耗，保障光束传输效率。材料阿贝数可达 95.23，色散水平低，可减少色差带来的成像偏差。

Hellma 可提供大尺寸单晶毛坯，支持 <111>、<100 > 等多种晶向选择，毛坯、切割、研磨、抛光等多种表面状态均可定制。按照激光耐受等级划分 LD‑A 至 LD‑B‑LD‑C‑LD‑D 不同品级，覆盖从光刻光路到常规紫外检测的差异化工况