Hellma 氟化钙 CaF₂单晶用于半导体芯片制造

芯片制造的精密制程，对光学基材的光谱性能、激光耐受能力提出严苛要求。德国 Hellma Materials 依托耶拿光学晶体技术积淀，自研自产高纯氟化钙（CaF₂）单晶，是半导体深紫外光路中应用的光学坯料材料。

Hellma氟化钙单晶拥有 130 nm 至 9 μm 的宽光谱透射区间，在 193 nm、248 nm 等半导体核深紫外工作波段具备透过表现，降低光路能量损耗，保障光束传输效率。材料色散水平低，阿贝数可达 95.23，能够有效减少色差干扰；同时严控应力双折射，光学均匀性表现稳定，保障光束波前质量，适配纳米级图形转移、晶圆检测等高精度场景。

针对准分子激光长期辐照工况，Hellma 氟化钙经过晶体生长工艺优化，拥有不错的激光耐受性能，降低长期激光作用下产生缺陷的概率，适配半导体设备连续运行工况，也可适应真空腔体、高低温等复杂生产环境。

产品拥有多套激光耐久品级，覆盖主光路、辅助光路、检测窗口等不同工况。可提供大尺寸单晶毛坯，支持多种晶向选择，毛坯、切割坯料等多种交付形态